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bits, bytes e bravata!

High-o-quê?

Intel Editor’s Day — Durante sua apresentação sobre tecnologias do futuro, Marcel Saraiva, gerente de produtos de servidores, fez uma breve descrição do processo de fabricação de 45 nm. Ele também descreveu a tecnologia que viabilizou o seu desenvolvimento, ou seja, um novo material high-K à base de Háfnio (Hf) e um elemento metálico no lugar do Silício Policristalino (Polysilicon) e do Óxido de Silício (SiO2), usados nas portas dos transistores que formam os circuitos integrados.

A propósito, o que é high-K?

intel_esquema_45nm.jpgCitado pela Intel de vez em quando, nas suas apresentações sobre processos de fabricação, esse termo se refere a qualquer elemento químico, cuja constante dielétrica “K” esteja acima dos 3,9 do SiO2. Do mesmo modo, um elemento Low-K estaria abaixo desse valor.

No caso dos 45 nm, o uso de um elemento high-K reduziu o vazamento de corrente na porta do transistor em mais de 10 vezes, melhorando o seu desempenho em mais de 20%, abrindo assim o caminho para o novo processo de fabricação.

Mais informações no site da Intel.

Eu me recordo que numa conference call realizada no início desse ano, sobre esse anúncio, representantes da Intel nos EUA informaram que tanto a composição do material high-K, quanto a do elemento metálico são consideradas segredos industriais e, apesar de existirem inúmeras variações desses materiais, foi apenas uma combinação em especial que produziu os efeitos desejados.

De fato, os pesquisadores estavam tão orgulhosos da sua realização, que disseram não acreditar que a concorrência seria capaz de repetir a façanha antes da chegada do processo de 32 nm, prevista para o próximo ano Tick (2009).

Apesar do tom de bravata, fiquei intrigado com essa afirmação, pois isso mostrava que a Intel sabia que tal pesquisa demanda muita experimentação. E e a certeza de que a concorrência não conseguiria fazer o mesmo em pouco tempo só aumentou minhas suspeitas de que os pesquisadores — além de trabalho duro — tiveram alguma sorte nessa descoberta.

Tive a oportunidade de falar sobre isso com o Dr. Jerry Bautista, diretor responsável pelo projeto do Tera-scale processor (mais sobre isso daqui a alguns posts), que esteve no Editor’s Day para fazer uma apresentação sobre o Intel Labs e seu chip de 80 núcleos.

Sua resposta foi que sim — houve um pouco de “sorte” nesse trabalho — porém, mais no sentido de que os pesquisadores souberam seguir no caminho certo para obter sucesso na pesquisa.

Ele disse que foi mais ou menos como encontrar uma mina de ouro: eles tinham uma boa idéia de onde cavoucar e a sorte foi de ter realmente encontrado o vil metal.

(rev.ok)

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5 agosto, 2007 - Posted by | Intel, Tecnologia

2 Comentários »

  1. […] mais importante talvez seja recordar que ele é o primeirio chip a utilizar um novo material “high-K” à base de Háfnio (Hf) e um elemento metálico no lugar do Silício Policristalino […]

    Pingback por   Surpresa, surpresa! Chegou o Penryn! by Zumo Blog: Tecnologia. Opinião. Inteligência. | 11 novembro, 2007 | Responder

  2. […] mais importante talvez seja recordar que ele é o primeirio chip a utilizar um novo material “high-K” à base de Háfnio (Hf) e um elemento metálico no lugar do Silício Policristalino […]

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